湿法氧化炉
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收费标准
机时900元/小时 -
设备型号
ALOX-1.4L -
当前状态
-
管理员
张敏,朱虹 18859197870 18134670217 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 附件下载
- 公告
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名称
湿法氧化炉
资产编号
S2407167
型号
ALOX-1.4L
规格
1.适用晶圆尺寸：2-6英寸； 2.工艺温度范围：300-600℃，工艺控温精度：±0.5℃；3.氧化速率：0.1至1μm/ min。
产地
法国
厂家
ALOXTEC
所属品牌
出产日期
购买日期
2023-11-14
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
薄膜
资产负责人
宋惠雪
联系电话
18859197870,18134670217
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
1.适用晶圆尺寸：2-6英寸；
2.工艺温度范围：300-600℃，工艺控温精度：±0.5℃，片内温度精度：＜2℃；升温速度：最高35℃/min；
3.设备在465℃稳定后，三个加热器区域的最大温度波动为±0.5℃（由内部TC测量）；
4.氧化速率：0.1至1μm/ min； 5.氧化均匀度的标准偏差：0.5μm和5mm（边缘排除）（基于19点测量的孔径高斯分布的标准偏差计算）
2.工艺温度范围：300-600℃，工艺控温精度：±0.5℃，片内温度精度：＜2℃；升温速度：最高35℃/min；
3.设备在465℃稳定后，三个加热器区域的最大温度波动为±0.5℃（由内部TC测量）；
4.氧化速率：0.1至1μm/ min； 5.氧化均匀度的标准偏差：0.5μm和5mm（边缘排除）（基于19点测量的孔径高斯分布的标准偏差计算）
主要功能及特色
用于VCSEL的氧化沉积，可以实时监控氧化过程与量测氧化孔径。
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公告
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