磁控溅射仪（Sputter）
-
0/人使用者
-
0/次机时次数
-
0/小时总时长
-
0/次送样次数
-
5/人收藏者
-
收费标准
机时800元/小时 -
设备型号
PRO Line PVD200 -
当前状态
-
管理员
宋惠雪,林清平 15889668546 13602651608 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
- 同类仪器
名称
磁控溅射仪（Sputter）
资产编号
S2409068
型号
PRO Line PVD200
规格
1、基片尺寸：8英寸，兼容8英寸以下基片。 2、镀膜均匀性：8英寸内≤±5%。 3、4个4英寸靶枪，靶枪最低工作压强：≤1mTorr。
产地
美国
厂家
Kurt J.Lesker Company
所属品牌
出产日期
购买日期
2023-07-07
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
薄膜
资产负责人
宋惠雪
联系电话
15889668546,13602651608
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
主要规格&技术指标
1、基片尺寸：8英寸，兼容8英寸以下基片。
2、镀膜均匀性：8英寸内≤±5%。
3、4个4英寸靶枪，靶枪最低工作压强：≤1mTorr。
4、本底真空：优于5X10-7torr；
5、带全自动loadlock单基片进样室，可以安装一个8英寸的基片；
6、样品加热台温度：最大不低于800度；
7、电源数量：1台600W的射频电源，2台1500W直流电源，1个电源切换器；
8、样品台转速0-20RPM可调；
9、质量流量计：3路，O2（20sccm）、Ar（100sccm）、N2（20sccm）。
2、镀膜均匀性：8英寸内≤±5%。
3、4个4英寸靶枪，靶枪最低工作压强：≤1mTorr。
4、本底真空：优于5X10-7torr；
5、带全自动loadlock单基片进样室，可以安装一个8英寸的基片；
6、样品加热台温度：最大不低于800度；
7、电源数量：1台600W的射频电源，2台1500W直流电源，1个电源切换器；
8、样品台转速0-20RPM可调；
9、质量流量计：3路，O2（20sccm）、Ar（100sccm）、N2（20sccm）。
预约资源
附件下载
公告
同类仪器
