磁控溅射镀膜机
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收费标准
机时800元/小时 -
设备型号
PRO Line PVD 200 -
当前状态
-
管理员
宋惠雪,林清平 15889668546 13602651608 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 预约资源
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名称
磁控溅射镀膜机
资产编号
S2600146
型号
PRO Line PVD 200
规格
1、基片尺寸：8英寸，兼容8英寸以下基片；2、镀膜均匀性：8英寸基片内≤±5%； 3、4个4英寸靶枪；4、本底真空：优于5E-7torr，主腔室工作气压可调；5、带全自动loadlock单基片进样室； 6、样品加热台温度：最大不低于800摄氏度
产地
美国
厂家
Kurt J.Lesker Company
所属品牌
出产日期
购买日期
2024-04-28
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
薄膜
资产负责人
宋惠雪
联系电话
15889668546,13602651608
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
主要规格&技术指标
1、基片尺寸：8英寸，兼容8英寸以下基片；
2、镀膜均匀性：8英寸基片内≤±5%；
3、4个4英寸靶枪，靶枪最低工作压强：≤1mTorr；
4、本底真空：优于5E-7torr，主腔室工作气压可调；
5、带全自动loadlock单基片进样室，可以安装一个8英寸的基片；
6、样品加热台温度：最大不低于800摄氏度，转速0-20RPM可调，还具有清洗样品功能；
7、电源数量：2台600W的射频电源，1台1500W直流电源，1个靶枪电源切换器,1个样品台专用射频电源切换器；
8、质量流量计：3路，O2（20sccm）、Ar（100sccm）、N2（20sccm）；
2、镀膜均匀性：8英寸基片内≤±5%；
3、4个4英寸靶枪，靶枪最低工作压强：≤1mTorr；
4、本底真空：优于5E-7torr，主腔室工作气压可调；
5、带全自动loadlock单基片进样室，可以安装一个8英寸的基片；
6、样品加热台温度：最大不低于800摄氏度，转速0-20RPM可调，还具有清洗样品功能；
7、电源数量：2台600W的射频电源，1台1500W直流电源，1个靶枪电源切换器,1个样品台专用射频电源切换器；
8、质量流量计：3路，O2（20sccm）、Ar（100sccm）、N2（20sccm）；
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