反应离子刻蚀机
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收费标准
机时1000元/小时 -
设备型号
SI 591 -
当前状态
-
管理员
时建成,吴国才 13667027932 18898585631 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 附件下载
- 公告
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名称
反应离子刻蚀机
资产编号
S2507502
型号
SI 591
规格
射频电源13.56MHz，600W，8英寸向下兼容，8英寸SiO2刻蚀速率≥30nm/min
产地
德国
厂家
SENTECH Instruments GmbH
所属品牌
出产日期
购买日期
2024-05-07
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
刻蚀
资产负责人
时建成
联系电话
13667027932,18898585631
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
1.样品尺寸：8 inch向下兼容，托盘兼容；
2.下电极温控10-40℃
3.射频源13.56MHz，功率600W
4.工艺气体CHF3/CF4/SF6/O2/Ar
5.8英寸SiO2刻蚀速率≥30nm/min，侧壁>80°，刻蚀深度≥500nm，均匀性<5%，重复性<5%
2.下电极温控10-40℃
3.射频源13.56MHz，功率600W
4.工艺气体CHF3/CF4/SF6/O2/Ar
5.8英寸SiO2刻蚀速率≥30nm/min，侧壁>80°，刻蚀深度≥500nm，均匀性<5%，重复性<5%
主要功能及特色
用于浅层薄膜刻蚀
设备使用相关说明
自主上机机时费：
校外用户，1000元/小时
校内用户，500元/小时
校外用户，1000元/小时
校内用户，500元/小时
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