喷胶机
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收费标准
机时400元/小时 -
设备型号
ISPRAY-300 -
当前状态
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管理员
杨彪,冀晓博 13794360417 18666803994 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
喷胶机
资产编号
S2500084
型号
ISPRAY-300
规格
850mm*750mm*2333mm，8英寸平片或等效12英寸平片喷涂10um胶厚，wafer in wafer(片内):≤士1um,wafer to wafer(片间)均匀性:≤士lum:
产地
瑞士
厂家
SAWATEC AG
所属品牌
出产日期
购买日期
2024-04-24
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
光刻
资产负责人
杨彪
联系电话
13794360417,18666803994
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 样本检测注意事项
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
1.适用尺寸：最大直径12inch或12inch×12inch基片，并兼容尺寸小于12英寸的多种基片。
2.光刻胶供给泵：1个，胶泵精度：±0.1mL。
3.喷洒臂速度：≤300 mm/s，定位精度：±0.1mm。
4.移动臂行程：可XY轴分别移动，X轴行程≤300mm，Y轴行程≤300mm。
5.喷洒介质粘度：0.3 至 25 μPas。
6.烘烤热盘：有效加热面积：300mm，温度：≤150℃，均匀性：±1℃ @100℃。
2.光刻胶供给泵：1个，胶泵精度：±0.1mL。
3.喷洒臂速度：≤300 mm/s，定位精度：±0.1mm。
4.移动臂行程：可XY轴分别移动，X轴行程≤300mm，Y轴行程≤300mm。
5.喷洒介质粘度：0.3 至 25 μPas。
6.烘烤热盘：有效加热面积：300mm，温度：≤150℃，均匀性：±1℃ @100℃。
主要功能及特色
1. 适用于大尺寸基板的喷涂，最大兼容直径为12inch（ 300 mm） 的晶圆或尺寸为 12 ×12 英寸的基板。
2. 尤其适用于具备高度结构化形貌、 MEMS 结构或不平整表面特征的基板，能够获得均匀的喷涂和覆盖效果。
2. 尤其适用于具备高度结构化形貌、 MEMS 结构或不平整表面特征的基板，能够获得均匀的喷涂和覆盖效果。
样本检测注意事项
1. 胶瓶数量1个，瓶中的试剂类型基本固定，由AZ P4620、PGMEA等组成。
设备使用相关说明
1. 使用完成后及时清理加热板上的残留试剂。
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