电感耦合等离子体刻蚀（ICP）
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收费标准
机时1100元/小时 -
设备型号
PlasmaPro 100 Cobra -
当前状态
-
管理员
时建成,吴国才 13667027932 18898585631 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 附件下载
- 公告
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名称
电感耦合等离子体刻蚀（ICP）
资产编号
S2409196
型号
PlasmaPro 100 Cobra
规格
ICP射频源：3000W/2MHz，RF射频源：600W/13.56MHz
产地
英国
厂家
Oxford instruments plasma technology
所属品牌
出产日期
购买日期
2023-06-28
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
刻蚀
资产负责人
时建成
联系电话
13667027932,18898585631
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
1.样品尺寸： 8 inch向下兼容，小片及不规则片可通过载盘处理；
2 .均匀性：＜5%；
3.样品台温度控制范围：-30~400°C，
温度控制精度 ：± 1°C ；
4.ICP 射频源： 2 MHz， 功率≤ 3000 W，
RF 射频源：13.56 MHz, 功率≤300 W;
5. 气路系统：Ar、N2 、O2 、SF6 、SiCl4 、
Cl2 、BCl3 、CH 4、H2 ；
6. OES终点监测。
2 .均匀性：＜5%；
3.样品台温度控制范围：-30~400°C，
温度控制精度 ：± 1°C ；
4.ICP 射频源： 2 MHz， 功率≤ 3000 W，
RF 射频源：13.56 MHz, 功率≤300 W;
5. 气路系统：Ar、N2 、O2 、SF6 、SiCl4 、
Cl2 、BCl3 、CH 4、H2 ；
6. OES终点监测。
主要功能及特色
用于砷化镓、氮化镓等薄膜刻蚀
设备使用相关说明
自主上机机时费：
校外用户，1100元/小时
校内用户，550元/小时
校外用户，1100元/小时
校内用户，550元/小时
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