显影清洗机
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收费标准
机时150元/小时 -
设备型号
SS-T06-XYW-02M -
当前状态
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管理员
杨彪,冀晓博 13794360417 18666803994 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
显影清洗机
资产编号
S2400030
型号
SS-T06-XYW-02M
规格
6”Wafer，25pcs/篮，1篮/次 8寸单片；显影槽：手动上液，自动排液，250mm*250mm*250mm；鹅颈冲水槽：手动/自动上液，自动排液，250mm*250mm*250mm；
产地
中国
厂家
苏州施密科微电子设备有限公司
所属品牌
出产日期
购买日期
2023-11-15
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
光刻
资产负责人
杨彪
联系电话
13794360417,18666803994
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
1. 作业尺寸：6inch晶圆及以下，25psc/篮/次；8inch晶圆，单片/次。
2. 槽体：QDR槽1个、鹅颈冲水槽1个。
3. 槽体药液：DIW。
4. 其它配置：水枪1把，氮气枪1把。
5. 电气控制：PLC+触摸屏。
2. 槽体：QDR槽1个、鹅颈冲水槽1个。
3. 槽体药液：DIW。
4. 其它配置：水枪1把，氮气枪1把。
5. 电气控制：PLC+触摸屏。
主要功能及特色
应用于光刻显影制程。
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