显影清洗机
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收费标准
机时150元/小时 -
设备型号
SS-T08-XYW-02B -
当前状态
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管理员
冀晓博,容炎森 18666803994 18218426360 -
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
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名称
显影清洗机
资产编号
S2317858
型号
SS-T08-XYW-02B
规格
槽体部分包含显影槽、QDR槽和旋转机械臂；显影槽具备浸泡、180°旋转及提拉功能
产地
中国
厂家
苏州施密科微电子设备有限公司
所属品牌
出产日期
购买日期
2023-06-15
所属单位
半导体微纳加工中心
使用性质
科研
所属分类
光刻
资产负责人
容炎森
联系电话
18666803994,18218426360
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B2栋1层B108
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
主要规格&技术指标
1.晶圆尺寸：6英寸及以下，25片/批、8英寸，单片，定制花篮；
2.槽体部分需包含显影槽、QDR槽和旋转机械臂；
3.显影槽具备浸泡、180°旋转及提拉功能，提拉功能可单独控制；
4.QDR 槽提供可视化触摸屏，在触摸屏里可将喷淋+溢流+鼓泡+快排模块化设计，每个工序时间可在0~999s 自由设定，并可设定重复次数，以达到清洗效果；
5.旋转机械臂可定点旋转清洗工件，最大载重15KG；
6.可设定各制程槽工艺参数，编辑各工艺配方移动路径。
2.槽体部分需包含显影槽、QDR槽和旋转机械臂；
3.显影槽具备浸泡、180°旋转及提拉功能，提拉功能可单独控制；
4.QDR 槽提供可视化触摸屏，在触摸屏里可将喷淋+溢流+鼓泡+快排模块化设计，每个工序时间可在0~999s 自由设定，并可设定重复次数，以达到清洗效果；
5.旋转机械臂可定点旋转清洗工件，最大载重15KG；
6.可设定各制程槽工艺参数，编辑各工艺配方移动路径。
主要功能及特色
用于晶圆的光刻胶显影和残留品清洗。
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