椭偏仪
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29/人使用者
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149/次总次数
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268/小时总时长
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1/人收藏者
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收费标准
机时100元/小时 -
设备型号
UVISEL Plus -
当前状态
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管理员
宋宗鹏 -
放置地点
坪山校区（校本部）B4栋1层101
- 仪器信息
- 预约资源
- 附件下载
- 公告
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名称
椭偏仪
资产编号
S2214517
型号
UVISEL Plus
规格
产地
法国
厂家
HORIBA FRANCE SAS
所属品牌
HORIBA
出产日期
购买日期
2022-11-29
所属单位
分析测试中心
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
宋宗鹏
联系电话
联系邮箱
放置地点
坪山校区（校本部）B4栋1层101
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 设备使用相关说明
- 备注
主要规格&技术指标
1.1 测量范围：Psi= 0°~90°，Delta= 0°~360°，无死区。 1.2 Psi和Delta精确度测量：直射测量空气，测量精度≤0.02°（Psi = 45°）；测量精度≤0.02°（Delta =0°）。 1.3 测量重复性：测量单晶硅上生长单层SiO2（厚度80-100nm）样品， 30次连续测量厚度标准偏差≤0.4？，30次连续测量折射率标准偏差（633nm）≤0.0003。 1.4 软件配置色散公式≥31个，材料模型≥300个。 1.5 测量时间：全光谱≤3分钟。 1.6对透明基底具有自动收集背反射，背反射抑制处理能力。 1.7 光谱范围覆盖：190nm–2100nm，有效覆盖深紫外波段、可见至近红外波段。 1.8光源: 氙灯，功率75W ，配有电源和用于监测灯寿命的计时器。 1.9具有斩波器，用于调制和背景扣除，具有消色差反射镜系统可以将激发光聚焦到样品上。 1.10调制方式：非机械调制方式，无机械旋转，保证高稳定性，调制频率50KHz。 1.11要求采用双级相加光谱仪，2次分光能更好的抑制杂散光，提高测量精确度。 1.12高杂散光抑制比，紫外<0.5% @190nm。 1.13光谱分辨率<0.15nm。 1.14配有光电倍增管PMT探测器，保证深紫外区和微光斑测量时的高灵敏度。 1.15提供永久授权的全套软件包，包括：测量，校准和分析。能够准确测量单层膜，多层膜，超薄膜的厚度，折射率n和消光系数k。 2.1入射角：55°到90°可调，步进5°。 2.2角度精确度：≤0.01°。 3.1自动XY样品台: 移动范围200mm *200mm。 4.1消色差微光斑，光斑尺寸（90度入射）包含：50um，100um，1mm。 4.2配置摄像头，用于观测微光斑和样品表面。 5.1配置高分辨率近红外单色仪。 5.2配置InGaAs探测器：光谱响应范围830-2100nm。 6.1变温台变温范围：-196°C ~ +350°C。
主要功能及特色
椭偏仪是研究膜系样品不可或缺的测试设备，主要用于测量各类薄膜的膜厚、折射率和消光系数（n，k），对单层膜、多层膜等材料具有光学性能的分析能力，测量膜厚范围可从单原子层至微米量级。该设备在第三代半导体，有机聚合物，微纳器件等前沿研究领域具有广泛的应用。
设备使用相关说明
校内用户：100元/小时
校外用户：200元/小时
校外用户：200元/小时
备注
请和管理员老师确认预约时间。另额外需要一片空白干净基底，方便建模处理数据。
预约资源
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